Есть ли требования по минимальному расстоянию от шелкографии до контактных площадок или до вскрытий маски?

Мы чистим шелкографию с отступом 50 мкм от окна вскрытия в маске.

Похожие вопросы

Возможно ли производство топологии с точностью ±20 мкм, ±10 мкм?

Стоит заметить, что 6-7 класс – это ±20-15 микрон. Довольно сложно при нашей технологии гарантировать…
Вернуться к разделу "Вопросы и ответы"

Если у вас остались вопросы, напишите нам

Не нашли нужную информацию на сайте? Просто напишите нам — наши эксперты помогут вам!