Какое расстояние допустимо для зазора между шелкографией и вскрытием маски?
Мы чистим шелкографию с отступом 50 мкм от края вскрытия в маске. Подробную информацию вы можете найти на нашем сайте в разделе Технологические возможности производства.
Похожие вопросы
Есть ли требования по минимальному расстоянию от шелкографии до контактных площадок или до вскрытий маски?
Мы чистим шелкографию с отступом 50 мкм от окна вскрытия в маске.
Мы заказываем у вас печатные платы, и на одной из них необходимо изменить шелкографию и в целом название проекта. За это будет взиматься полная плата/комиссия как за полноценную подготовку производства?
Это считается повтор с изменениями, подготовка взимается частично, только за изменения.
Можно ли сделать пару контактных площадок на торце платы? Будет ли обеспечена механическая прочность и электрический контакт с дорожкой на внутреннем или внешнем слое?
Да, если для торцевых "ламелей" будут соблюдены минимальные ширина/зазор - 2,0 мм, то они могут быть…