Какое расстояние допустимо для зазора между шелкографией и вскрытием маски?
Мы чистим шелкографию с отступом 50 мкм от края вскрытия в маске. Подробную информацию вы можете найти на нашем сайте в разделе Технологические возможности производства.
Похожие вопросы
Делается ли шелкография на гибком шлейфе? Если да, то какие ее основные параметры (толщина, размер)?
Если применяется покровная пленка, то мы не делаем шелкографию. Если же на плату наносится…
Можно ли сделать пару контактных площадок на торце платы? Будет ли обеспечена механическая прочность и электрический контакт с дорожкой на внутреннем или внешнем слое?
Да, если для торцевых "ламелей" будут соблюдены минимальные ширина/зазор - 2,0 мм, то они могут быть…
Есть ли требования по минимальному расстоянию от шелкографии до контактных площадок или до вскрытий маски?
Мы чистим шелкографию с отступом 50 мкм от окна вскрытия в маске.
Если у вас остались вопросы, напишите нам
Не нашли нужную информацию на сайте? Просто напишите нам — наши эксперты
помогут вам!